Un gruppo di scienziati dell’Università di Twente, Olanda, avrebbe sviluppato un nuovo metodo per creare nanostrutture tridimensionali che consentirebbe, in futuro, una produzione su larga scala di cristalli fotonici in grado di catturare la luce.
La tecnica permetterebbe, soprattutto, di produrre chip con nanostrutture tridimensionali che potrebbero vantare funzioni aggiuntive in particolare per i dispositivi mobili e in generale per i computer.

Attualmente il metodo usuale per fabbricare microstrutture in 3D consiste nell’impilare letteralmente strati su strati su un chip di silicio. Il processo si rivela ovviamente molto lungo e laborioso tanto che la produzione stessa della chip diventa alla fine molto poco conveniente.
Inoltre, ci sono delle restrizioni naturali sul numero di strati che si possono impilare uno sopra l’altro e sulla distanza stessa tra gli strati.
In maniera differente, il nuovo metodo degli scienziati olandesi definisce una nanostruttura 3D su un chip con un unico processo. Il tutto grazie ad una sorta di piccola maschera 3D che rifinisce la struttura sui due lati del silicio contemporaneamente. Questo metodo, oltre che più veloce, garantisce anche che entrambi i lati del chip risultino alla fine ben allineati, garantendo una perfetta nanostruttura tridimensionale.

Secondo gruppo di ricerca, questo metodo aprirebbe la strada alla produzione di massa di chip tridimensionali. Attualmente, però, si sta ancora studiando come realizzare tutto il processo attraverso metodi migliori e ancora più veloci.
“Il nostro metodo permette di combinare una varietà infinita di funzioni su un chip, come l’elettronica, l’ottica, il magnetismo e la microfluidica”, dichiara Willem Vos, Uno degli autori della ricerca.
Condotta da D A Grishina, C A M Harteveld, L A Woldering e W L Vos, dell’Università di Twente, la ricerca è stata resa pubblica su Nanotechnology con il titolo Method for making a single-step etch mask for 3D monolithic nanostructures.

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